在材料科學(xué)與微觀分析的探索中，科研人員往往面臨著一個(gè)兩難的選擇：是追求落地式場(chǎng)發(fā)射電鏡（FE-SEM）的高分辨率，忍受其龐大的體積、苛刻的環(huán)境要求和復(fù)雜的制樣流程？還是妥協(xié)于普通臺(tái)式電鏡的便捷，卻在成像質(zhì)量上止步不前？
荷蘭飛納（Phenom） 給出的答案是：不妥協(xié)。
Phenom Pharos G2 臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡的出現(xiàn)，打破了“高性能"與“小體積"不可兼得的。作為搭載肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源（Schottky FEG）的臺(tái)式掃描電鏡，它將科研級(jí)的分辨率裝進(jìn)了桌面級(jí)的機(jī)身里，讓微觀世界的探索變得自由與高效。
1. 核心突破：低電壓下的超高清晰
傳統(tǒng)的鎢燈絲電鏡在低電壓下往往成像模糊，而 Pharos G2 得益于高亮度的肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源，展現(xiàn)了驚人的物理性能。
分辨率優(yōu)于 1 nm：這不僅是數(shù)據(jù)的提升，更是視野的質(zhì)變。
低電壓成像優(yōu)勢(shì)：即使在低加速電壓下，依然能獲得銳利圖像。這意味著對(duì)于絕緣材料、聚合物、生物組織等對(duì)電子束敏感的樣品，能夠顯著降低熱損傷和穿透效應(yīng)，還原最真實(shí)的表面細(xì)節(jié)。
2. 效率革命：告別繁瑣，即刻成像
在分秒必爭(zhēng)的研發(fā)與質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)，時(shí)間就是成本。Pharos G2 將“用戶體驗(yàn)"提升到了新的維度：
無(wú)需噴金，直接觀測(cè)：內(nèi)置的真空鎖設(shè)計(jì)與低真空模式，允許直接觀察不導(dǎo)電樣品。告別費(fèi)時(shí)的金屬鍍膜前處理，保留樣品原始狀態(tài)。
15秒極速抽真空：從放入樣品到出圖，僅需一杯咖啡抿一口的時(shí)間。
全自動(dòng)化操作：結(jié)合彩色光學(xué)顯微鏡導(dǎo)航與自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)，30分鐘即可培訓(xùn)上手。無(wú)論是專家還是實(shí)習(xí)生，都能輕松駕馭。
3. 集成：形貌與成分的一站式分析
它不僅僅是一臺(tái)顯微鏡，更是一個(gè)微觀分析工作站。設(shè)備集成了三大核心功能，無(wú)需切換設(shè)備即可完成完整表征：
背散射電子成像 (BSE)：快速判斷成分分布與襯度。
二次電子成像 (SE)：清晰捕捉表面形貌與立體結(jié)構(gòu)。
集成能譜分析 (EDS)：高速、穩(wěn)定地進(jìn)行元素成分定性與定量分析。
4. 穩(wěn)如磐石：適應(yīng)各種復(fù)雜環(huán)境
不同于落地式電鏡對(duì)安裝環(huán)境的“挑剔"，Pharos G2 專為適應(yīng)性而生。
免防震臺(tái)設(shè)計(jì)：內(nèi)置 27 組獨(dú)立減震模塊，有效隔離環(huán)境震動(dòng)。無(wú)論是擁擠的學(xué)校實(shí)驗(yàn)室、繁忙的企業(yè)研發(fā)室，還是空間狹小的辦公區(qū)，它都能穩(wěn)定運(yùn)行。
免維護(hù)電子光路：免調(diào)節(jié)、免對(duì)中設(shè)計(jì)，極大降低了后期維護(hù)難度與成本，確保了設(shè)備長(zhǎng)期運(yùn)行的一致性。
適用領(lǐng)域與應(yīng)用場(chǎng)景
Pharos G2 的多功能性使其成為跨學(xué)科研究的理想伙伴：
新能源與鋰電：正負(fù)極粉末形貌分析、隔膜微孔結(jié)構(gòu)觀測(cè)。
半導(dǎo)體與微電子：晶圓缺陷檢測(cè)、封裝工藝驗(yàn)證。
材料科學(xué)：金屬斷口分析、納米陶瓷微觀結(jié)構(gòu)、高分子復(fù)合材料研究。
生物與制藥：生物組織結(jié)構(gòu)觀察、藥物微球分析。
為什么選擇 Phenom Pharos G2？
在同類產(chǎn)品中，Pharos G2 以其獨(dú)特的定位解決了傳統(tǒng)電鏡的痛點(diǎn)：
特性 | 傳統(tǒng)落地式 FE-SEM | 普通臺(tái)式 SEM | Phenom Pharos G2 |
電子源 | 場(chǎng)發(fā)射 (FEG) | 鎢燈絲/六硼化鑭 | 肖特基場(chǎng)發(fā)射 (FEG) |
分辨率 | 超高 (<1nm) | 一般 (>3nm) | 科研級(jí) (<1nm，STEM模式) |
占地面積 | 需要獨(dú)立機(jī)房 | 桌面級(jí) | 桌面級(jí) (無(wú)需機(jī)房) |
抽真空時(shí)間 | 3-5 分鐘 | 1-3 分鐘 | < 15 秒 |
防震要求 | 超高 (需防震臺(tái)) | 一般 | 內(nèi)置防震 (適應(yīng)性強(qiáng)) |
Pharos G2 不僅僅是一臺(tái)設(shè)備，它是連接宏觀制造與微觀機(jī)理的橋梁，讓科研級(jí)的分析能力觸手可及。
如果您希望在您的實(shí)驗(yàn)室見證 Phenom Pharos G2 的實(shí)力，或需要獲取詳細(xì)的技術(shù)參數(shù)、配置清單及報(bào)價(jià)，請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)系。
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